中企刚宣布突破28nm,ASML就急着喊愿意“打折”

如今老美断供芯片,导致华为手机业务受到重创已经是全民话题了,几乎各大媒体平台都被半导体相关内容占领,时不时就会有国产芯片突破的好消息传出来。虽然目前我们的芯片水平依然落后国外很多年,但相信在不久的将来我们也会有量产高端芯片的能力。

说到芯片,其实我国在芯片行业的设计水平相比较制造代工、生产设备、生产材料这些项目落后的并不多,唯一让人绝望的只有生产设备:光刻机。

在国内外高端光刻机市场份额几乎完全被荷兰的ASML垄断,哪怕你有再厉害的设计水平,没有荷兰提供光刻机也只能巧是妇难为无米之炊。而中端市场又被日本的佳能、尼康两家公司占领,与此同时在低端市场也有它们的身影,中国能拿得出手的只有上海微电子,也只能在低端市场稍有存在感。

哪怕是垄断光刻机市场的ASML,一年也只能生产20台左右的高端光刻机,而且还是有钱都买不到的。ASML是股份制公司,如果想先率先拿到设备,只能是大股东,普通企业购买需要排队。我国中芯国际向ASML下单购买光刻机的消息已经很久了,但是至今没有收到货,不排除老美给的压力,但最主要的原因恐怕是没有货。

那么我们国家的光刻机制造处于什么水平?

这里就不得不提上海微电子,这家公司其实是国家科技部在2002年成立的项目,其目的就是推动国家半导体产业发展,同年光刻机项目被国家列为863重大科技研发计划。仅过了6年,也就是在2008年,国家为持续支持光刻机研发又启动了“02”计划。可以看出国家对光刻机关注程度远超我们的想象,但是光刻机技术的难度更加远超我们的想象,毫不夸张地说,光刻机技术是人类目前科技工艺的巅峰水平。

虽然荷兰ASML垄断了整个光刻机市场80%的份额,但是光刻机也不是荷兰一个国家能制造出来的。据悉光是内部所需要的零件就超过十万个,另外螺栓也有4万个,三千根电线,内部软管加在一起长度有两公里。一位半导体工程师说过他曾经为了调整光刻机内部的一个零件用了十年时间,ASML的老板也曾说出过这么一句话:哪怕公开ASML的光刻机的图纸,这个世界上也没任何人能造出光刻机。

中国院士之前也曾表示:没有一个国家可以凭一己之力造出光刻机,这句话已经获得行业内普遍认同,可见其难度之高,根本不是投入大量资金、人才就能解决的问题。中国目前研发光刻机不仅面临技术设备落后,还要面对西方国家的层层围追堵截,研发之路可见多难。但是即便如此,我国依然凭借一己之力将光刻机工艺突破至28纳米,这标志着我们国家也迈入可以制造14纳米芯片的领域了。尽管距离7纳米5纳米的水平还有非常大的差距,但这依然是一项了不起的成就。

据报道称,在2022年前后上海微电子的28纳米光刻机将可以实现量产,但是显然只拥有28纳米工艺是远远不够的。国家对更先进的光刻机也有在研发,早在2018年中国科学院就已经在试产22纳米工艺光刻机了,而且这项光刻机装备相关部门已经验收通过,如果一旦研发成功,将是目前全球唯一一台最高分辨力的紫外光刻设备。

中企刚宣布突破28nm,ASML就急着喊愿意“打折”。当国内半导体行业频频报捷的时候,ASML坐不住了,表示可以将28纳米的DUV光刻机降价卖给我们。他们着急抢占市场是可以理解了,毕竟中国是全球最大的市场,一旦中国可以自主研发光刻机,ASML将彻底失去这块大蛋糕,不过ASML目前也只是嘴上说说,没有老美的允许他们是不敢贸然将光刻机卖给中国的。吴汉明院士也提醒:光刻机不是三年五年就能轻松制造出来的,我们的精力不能全部放在光刻机上,只有先进的光刻机不代表半导体行业就能领先,我们更应该在整个半导体产业链上下功夫,要保证整个产业链生态的发展完善。

吴汉明院士:“劲”不能光用在光刻机上,产业链更重要。吴院士的话很符合当下中国半导体产业的现状,总体来说就是任重道远,我们在产业中不仅是芯片,光刻机受制于人,哪怕是制造芯片和光刻机的原材料同样被限制,要想突破现状不仅是要某一项技术领先,而是要全面不落后。