携3000项专利“出逃”国内市场?ASML没料到,多个变局来得突然

在我们实现芯片国产化的道路上,核心制造设备EUV光刻机无疑是最大的“拦路虎”,全球能生产的该设备的只有荷兰光刻巨头ASML,但其产线上却含有了超过20%的美技术配件,在出口管制规则的约束下,无法对华进行出口。

另外,这项价值1.2亿美元的设备极其复杂,研发难度高。虽然上海微电子曾派工程师团队赴荷兰学习,可却被ASML泼冷水,表示即便把图纸给中国,你们也造不出来

但正如王传福所说,再尖端的设备也是人造的,而非神造的。功夫不负有心,在中科院、清北高校以及国产科技企业的不懈研发下,EUV设备的光源、光学镜头、双工件台系统这三大核心技术相继传出了破冰的好消息。

很显然,EUV设备的国产化只是时间问题。面对这样的情况,担心未来被排除在我国市场之外的ASML先后多次发声,表示将加大在国内市场的投资布局,乐意提供技术设备支持,帮助中国加速构建完善的芯片产业链

而ASML也的确“这样做”了,在近两年时间,不仅面向国内市场销售了57台光刻机,而且还新增了多家研究所,招募了大量华人工程师。然而,随着ASML赴美的消息传出后,我们才发现ASML的示好原来是另有目的。

其销售的57台光刻设备均是老旧化机型,卖给我们主要是为了进行变现;而成立研究所、招募国内光刻人才,主要目的则是申请光刻专利、为己所用。数据显示,ASML近两年时间在国内市场密集申请了大约3000项光刻专利。

这意味着,随着ASML赴美,那么这3000千项专利或将会成为遏制国产化光刻发展的“利刃”,因为没有相应的专利授权,即便我们研发出了EUV设备,也是无法使用的。除非我们能研发出更先进的光刻技术,与ASML进行交叉授权,但这显然是增加了我们的研发难度。

至于ASML为什么要前往美国东南部凤凰城,一方面是由于它的产线上依赖美技术设备,很难拒绝,另一方面则是,台积电、三星、英特尔都计划在美建设晶圆厂,对高精尖光刻设备的需求增加,在ASML看来,相比我国市场,它跟随老美的脚步更有利于发展。

但没想到的是,突如其来的三个变局,让ASML在我国市场所做的一系列布局以及盘算好的计划,看起来如今似乎不再那么乐观

首先,台积电、三星、英特尔均已表态,如果美国承诺的520亿美元补贴仍无法到账,那么它们将停止继续在美本土建造晶圆厂。英特尔或许是冲着补贴来的,但台积电、三星就不一样了,它们此举更是为了给老美施压,让其不再向自己索要芯片机密数据。

但对ASML而言,一旦台积电、三星等企业取消建厂计划,那么对EUV设备的需求也就没那么多了,这必然会影响到ASML的销量营收,以及它在美未来的发展

其次,铠侠公司联合伙伴开发出了新工艺,纳米压印微影技术(NIL)的量产技术。据悉,NIL技术电路精细程度可达5nm,与EUV设备的极紫外光半导体制程细微化技术相比,前者能耗更少、成本更低。

也就是说,EUV设备或将不再是制造5nm芯片的唯一技术设备,这意味着,新的芯片格局中,ASML将不再占据产业链上游的主导地位,其妄图通过专利来遏制国产光刻进展的计划或将因此而落空。

最后,我国是全球最大的半导体消费市场,经历过此次刻骨铭心的“卡脖子”之痛后,实现芯片国产化替代已是势在必行,那些海外垄断技术设备的突破只是时间问题。不管ASML最终能否实现EUV设备对华出口,都不可能改变我们自主研发的脚步。

从这个角度来看,ASML携3000专利赴美的决定,对它未来在我国市场的发展是不利的。

在全球缺芯的大环境下,芯片市场格局时刻都在变化,不过对于我们而言,需要坚持的是:不抱幻想、埋头研发,只有做到了“手中有粮、心里不慌”,才能占据主动、立于不败之地。