韩媒:台积电3nm良率仅有50%,三星已达“完美水准”

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日前,台积电在台南科学园区举办 3nm 量产暨扩厂典礼,正式宣布启动 3nm 大规模生产。虽然三星早在半年前就已经开启了 N3(3nm)工艺芯片制造,但由于刚刚采用 GAA 的原因似乎生产良率有严重下滑。
当然,三星也没有坐以待毙,此前业界称其已经联合 IBM、Silicon Frontline Technology 等公司合作提高 3nm 成品率,希望为自家手机争取到部分高通骁龙 8 Gen3 的订单。今日据韩国经济日报报道,三星一位高管在受访时表示,相比于此前受困的良率问题,三星第一代的3nm制程良率“接近完美”,第二代3nm芯片技术也迅速展开。“我们现在正在马不停蹄地开发第二代3nm芯片。”
此前中国台湾媒体报道称,台积电的3nm工艺实现了高达85%的生产良率,高于三星。韩媒称,这一数字过于夸张,韩国行业消息人士认为实际可能在50%。他们表示,考虑到台积电向苹果大规模生产和交付业界最小的芯片的周期,其产量最多为50%。
据悉,在三星与台积电都进入3nm制程的时代之后,未来3nm制程将会成为晶圆代工市场的主流。因此,预计到2025 年之际,3nm制程市场的产值将会高达255 亿美元,超越当时5nm制程预估的193 亿美元产值。根据市场调查机构TrendForce 的数据显示,2022 年第三季度,在全球晶圆代工市场中,台积电仍以53.4%市场份额稳居第一,排名第二的三星市场份额仅16.4%。所以,在市场激烈竞争下,也使得3nm制程将成为未来两家公司主要竞争的关键。
台积电和三星在先进制程竞争激烈,除先进制程技术以外,两家公司也都在积极布局下游先进封装领域。包括3DFabric平台、I-Cube与X-Cube系列,希望结合先进制程,加上独门的先进封装技术,以完整的解决方案,争取客户青睐。不过,三星与台积电两家厂商也有三大差异,决定两者的发展方向必然不同。
三星与台积电的差异
三星与台积电的最大差异当属商业模式,三星和英特尔同样有整合元件(IDM)业务领域,但台积电一开始就鼓励IC设计厂商“fabless”,以自身专注晶圆制造为客户服务。台积电不与客户竞争,加上先进技术、强大制造、坚强的客户伙伴关系等三位一体竞争优势,近十年培养出规模经济,彼此间有加乘效益。不过,三星因有强大系统整合与终端产品经验等,对部分寻找出海口的芯片厂来说具有更大话语权,比如和芯片客户谈代工也谈订单,在三星晶圆代工厂投片,将有望在三星旗下品牌导入采用。三星是全球前二大智能手机品牌,年出货量约2.4亿支,调整自制与采购芯片自然产生彼此平衡力道。例如三星往IDM模式发展,对其他直接竞争的手机品牌的投片生产当然较难争取,但若非直接竞争者的芯片或GPU厂商,相对无利害关系,找三星代工就是一个参考选项。
第二大差异是量产规模决定了代工地位,因三星晶圆代工的先进制程产能仅约台积电四分之一,其中产能有五成以上自用,仅约四成释出接单,总产能仍少于台积电,不少投片生产的客户多将三星代工当成第二供应商的考量。双方PK最厉害的应该是先进制程的量产规模,代表了最直接的竞争力。虽然三星常把超越台积电挂在嘴边,但知名研究机构The Information Network预测,台积电和三星在7nm乃至更先进的制程上,实际量产产能规模差距近三年仍相当明显。
以7nm来看,2019年时台积电7nm产能约每月10.5万片,对应三星制程的相关产能则仅约2万片,2020年二者之间产能差距推估约14万片与2.5万片,台积高出三星4.6倍。同样的情况也在5nm制程上发生,机构数据显示,推估台积电5nm月产能将在2022年内达到月产12万片,三星也积极在韩国本地扩充,估计月产能有机会达到3.5万片,台积电仍超过2.42倍。
第三大差异,市场估计将落在3nm制程技术上。三星在3nm先进制程的实际量产时间为2022年上半年,率先量产第一代3nm,采用环绕闸极技术(Gate-All-Around;GAA)精进制程,提高量产良率。台积电则是在2022年下半年量产3nm,仍采用鳍式场效电晶体(FinFET)技术。三星同时开发3nm乃至2nm所需的第二代技术多桥通道场效应电晶体(Multi-Bridge-Channel FET;MBCFET),希望在第一代3nm量产后一年导入生产。
三星指出,新技术能使芯片效能较7nm制程提高35%、面积减少45%,功耗降低五成。但并未讲明实际量产情况,尚须持续追踪。台积电仍使用FinFET架构提供客户3nm制程产能,并在法说会上强调,将提供客户最成熟的技术、最好的效能及最佳的成本,对照5nm及7nm的开发与导入时间,台积电选择多种的成本组合让客户选择,让高效能运算及智能手机应用上都有较多客户使用3nm。
然而,随着3nm的代工价格持续攀升也让不少客户望而却步。从成本核算的角度来看,第三方分析机构IBS曾算过一笔账,晶圆厂在3nm制程的工艺研发投入达到40亿美元-50亿美元,建一座3nm制程、每月生产4万片的生产线,成本约为150亿美元-200亿美元,这还只是晶圆厂的投入。先进制程芯片的开发费用同样不遑多让,其研发费用主要包括芯片设计、IP、EDA、设备等,根据第三方半导体研究机构Semi engineering计算,28nm制程的开发费用大约为5130万美元,到16nm制程需要投入1亿美元,到5nm制程节点,这个费用达到5.42亿美元。可见先进制程芯片的制造成本一路飙高。
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