本文由半导体产业纵横（ID：ICVIEWS）综合
中荷双方重点就光刻机输华等议题深入交换意见。
3月27日，商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文。双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。
王文涛表示，今年是中荷建立开放务实的全面合作伙伴关系十周年。中方赞赏荷方坚持自由贸易，视荷方为可信赖的经贸伙伴，希望荷方秉持契约精神，支持企业履行合同义务，确保光刻机贸易正常进行。要防止安全泛化，共同维护全球半导体产业链供应链稳定，推动双边经贸关系持续健康发展。
范吕文表示，荷兰以贸易立国，主张自由贸易，高度重视对华经贸合作。中国是荷兰最重要的经贸伙伴之一，荷兰愿继续做中国可靠的合作伙伴。荷兰出口管制不针对任何国家，所做决定基于独立自主的评估，并在安全可控前提下尽可能降低对全球半导体产业链供应链的影响。
光刻机是芯片制造的重要设备，主要由荷兰ASML，日本佳能、尼康等公司生产。其中，荷兰ASML市场份额占比近80%。
ASML首席商务官Roger Dassen在ASML 2023年第四季度财报电话会议中表示，ASML在2023年全年的业务中，中国市场表现强劲，主要原因是2022年的订单交付以及中国设备主要针对需求较为稳定的成熟制程市场。
ASML财报数据显示， 2023年第三季度中国大陆市场在ASML销售额业绩中的占比达46%，第四季度为39%，均为该季度ASML全球营收占比最高的市场。
我们知道，光刻机的先进程度直接决定了芯片的制程水平和性能水平。其实，中国光刻机的研发起步并不晚，早在上世纪70-80年代就已经有研制出接触式曝光系统，但是早年间我国半导体行业技术相对落后，加上认为“造不如买”的人不在少数，因此光刻机产业化这一进程就被暂时搁置了。一直到2002年ArF光刻机被列入“863计划”以及2008年启动“02专项”以后，光刻机产业化才再次被提上进程。
目前国产光刻机整机生产企业仅上海微电子一家有研发成功并完成出货的光刻机整机生产业绩。尽管上海微电子所组装生产的90nm光刻机主要用于芯片封装这一后道工艺，应用于前道工艺的技术水平仍较荷兰ASML有一定差距，但这也是中国国产光刻机产业化迈出里程碑式的一步。
目前我国光刻机的技术突破是采取类似于荷兰ASML的研发模式：就是通过中科院微电子所、长光所、上光所、清华大学、浙江大学等科研院所及高效做分系统，再由上海微电子进行整机组装。目前国产干法光刻机的分系统基本通过验收，并且陆续进入产业化。后续会继续对湿法光刻机分系统进行研发。
随着国产光刻机产业化的逐步完善，国产光刻机零部件的发展也开始逐步提上日程。据了解，一台光刻机是由上万个零部件组装而成，以ASML光刻机上游供应商为例，主要为美国、德国、日本、中国台湾厂商，美国厂商数量最多，其中最核心的组件是光源和镜头，镜头供应商为德国蔡司，光源供应商为美国Cymer（被ASML收购）和日本Gigaphoton，其中EUV光刻机光源由Cymer独家供应。其2022年供应商数量就达到5000家左右，因此目前国产上游零部件市场仍是一个较大的空间。
此外，光刻胶是半导体制造中使用的核心材料之一，也是与光刻机匹配使用的。光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶是由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。
目前全球光刻胶市场主要也是被日美企业所垄断，像日本的东京应化、日本JSR、住友化学和美国杜邦公司占有全球约70%的光刻胶市场份额。而国产光刻胶主要以PCB光刻胶为主，能应用到半导体的半导体光刻胶仅占一小部分，并且还是应用到低端芯片的G/I线光刻胶。而在KrF、ArF/ ArFi、EUV 等中高端半导体光刻胶领域，仍需要依靠进口光刻胶，国内光刻胶企业大多还处于研发及试验阶段，尚未能够大规模量产出货。
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