京东方A获得发明专利授权:“薄膜晶体管、显示基板及显示基板的制备方法”

证券之星消息,根据企查查数据显示京东方A(000725)新获得一项发明专利授权,专利名为“薄膜晶体管、显示基板及显示基板的制备方法”,专利申请号为CN202111164535.9,授权日为2024年4月26日。
专利摘要:本公开实施例提供一种薄膜晶体管、显示基板及显示基板的制备方法,所述薄膜晶体管包括设置在衬底上的栅极、有源层、设于所述有源层的远离所述衬底一侧的层间绝缘层,以及设于所述层间绝缘层的远离所述衬底一侧的源极和漏极;所述有源层包括沟道区,以及位于所述沟道区两侧的源极区和漏极区,所述源极区设有第一斜坡部,所述漏极区设有第二斜坡部;所述源极通过贯穿所述层间绝缘层的第一过孔与所述第一斜坡部搭接,所述漏极通过贯穿所述层间绝缘层的第二过孔与所述第二斜坡部搭接。本公开实施例的薄膜晶体管可以降低源电极和漏电极与有源层搭接部分的接触电阻,降低功耗。
今年以来京东方A新获得专利授权1344个,较去年同期增加了55.38%。结合公司2023年年报财务数据,2023年公司在研发方面投入了113.2亿元,同比增1.97%。
数据来源:企查查